[11a-N301-1~11] 6.6 Probe Microscopy

[11a-N301-5] Noncontact resistance force microscopy using external modulation of joule heating

〇(DC)Ryota Fukuzawa¹, Jianbo Liang³, Naoteru Shigekawa³, Takuji Takahashi^1,2 (1.IIS, The Univ. of Tokyo, 2.NanoQuine, The Univ. of Tokyo, 3.Grad. School of Eng., Osaka City Univ.)

Keywords:energy dissipation, resistance measurements, electrostatic force microscopy

周波数変調型原子間力顕微鏡では、探針振動によって生じたジュール熱量は試料の抵抗値に依存するが、このようなジュール熱量から抵抗値を見積もるには、ジュール熱の抵抗値依存性を明らかにする必要がある。今回、シミュレーションを行ったところ、低抵抗領域ではジュール熱は抵抗値に対して比例することが分かった。さらに、このような線形領域において、半導体試料に対しても成り立つ関係式を導き、定量的に抵抗値を画像化することに成功した。