2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[11a-N304-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2021年9月11日(土) 09:00 〜 12:00 N304 (口頭)

山口 憲司(量研機構)、原 康祐(山梨大)

09:45 〜 10:00

[11a-N304-4] B-doped BaSi2 膜へのポストアニール効果の Ba/Si 堆積レート比依存性

成田 隼翼1、山下 雄大1、青貫 翔1、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大)

キーワード:BaSi2、ポストアニール、MBE