2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[11a-N305-1~11] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2021年9月11日(土) 09:00 〜 12:00 N305 (口頭)

加藤 正史(名工大)

09:15 〜 09:30

[11a-N305-2] チャネリングイオン注入を用いたp型GaNの活性化評価

須山 篤志1、川野輪 仁1、南川 英輝1、青木 正彦1 (1.(株) イオンテクノセンター)

キーワード:チャネリング注入、GaN、活性化