[11a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

△ [11a-N321-6] フェムト秒レーザーによりSiO₂表面に形成した均一なナノ構造とその反射・透過特性

〇枝窪 南¹、Ihlemann Juergen²、宮地 悟代¹ (1.東京農工大、2.ゲッチンゲンナノ工学研)

キーワード：フェムト秒レーザー加工、SiO2、無反射表面

フェムト秒レーザーと2ステップ法を用いることにより、SiO_x (x~1)表面に均一なナノ構造を形成することに成功した。さらに、大気中でアニールしてSiO₂に変化させた後、光学顕微鏡で観察すると、均一なナノ構造が形成された表面は反射率が極めて低く、透過率はほぼ100%であった。実験結果より、2ステップ法により形成した均一なナノ構造を有するSiO₂表面は、散乱の少ない無反射表面であることを示した。