2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[11a-N401-1~5] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2021年9月11日(土) 09:00 〜 10:15 N401 (口頭)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

09:45 〜 10:00

[11a-N401-4] 転写法を用いた二段貫通電極自立膜の作製

古田 敦大1、日和佐 伸2、谷口 淳1 (1.東京理科大先進工、2.オーテックス 株式会社)

キーワード:ナノインプリント、銀インク、貫通電極

近年印刷法を用いて作製したセンサや太陽電池などのフレキシブルデバイスが注目を集めている。これらのデバイスは低コストで製造でき、柔軟であるために容易に曲げることができ、一つの基板上に多くの機能を実装することができる。また、デバイスの集積方法の点では3次元構造による小型化と高密度化の点で優れている貫通電極が注目されている。今回は自立した貫通電極膜の作製方法を検討した。