2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.9 テラヘルツ全般

[11a-S203-1~9] 3.9 テラヘルツ全般

2021年9月11日(土) 09:00 〜 11:30 S203 (口頭)

林 伸一郎(情通機構)

09:15 〜 09:30

[11a-S203-2] 超高周波電界検出のための電気光学ポリマーのフリースタンディング膜とその積層膜の作製

山田 俊樹1、梶 貴博1、山田 千由美1、大友 明1、藤丸 滋樹2、常守 秀幸2、中西 智哉2 (1.情報通信研究機構、2.帝人)

キーワード:超高周波電界検出、電気光学ポリマー、積層膜

EOポリマーの電気光学効果またはシュタルク効果を利用した高効率・超広帯域電界計測のために、EOポリマーのフリースタンディング膜及び様々な膜厚を有する積層膜を作製するための技術開発を行った。耐熱性及び靭性の高いポリカーボネート(PC)系EOポリマー(Tg:189℃)にポーリングを行った後、エッチング技術、表面処理技術、真空熱圧着技術等を用いて作製を行った。