2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.4 アナログ応用および関連技術

[11p-N403-1~5] 11.4 アナログ応用および関連技術

2021年9月11日(土) 13:00 〜 14:15 N403 (口頭)

廿日出 好(近畿大)

13:15 〜 13:30

[11p-N403-2] FIBによる高温超伝導ナノブリッジジョセフソン接合作製法の検討

〇(D)林 幹二1、大谷 涼1、有吉 誠一郎1、田中 三郎1 (1.豊橋技科大工学部)

キーワード:高温超伝導薄膜、ナノブリッジ、収束イオンビーム

高温超伝導SQUIDは、バイクリスタル型ジョセフソン接合(J.J.)が多く使用されているが、直線の粒界上にしか作製できず、特性のバラツキが大きいなどの問題があった。そこで、ガリウム収束イオンビーム(FIB)によるナノブリッジ型J.J.の作製法を検討した。本研究では、膜厚20 nmのAu層で保護した膜厚50 nmのYBa2Cu3O7-δ薄膜を加速電圧40 kVのFIB照射により幅50 – 150 nmのナノブリッジに加工し、77 Kで交流ジョセフソン効果の発現を確認した。