[11p-S202-11~14] CS.3 3.5 レーザー装置・材料、3.14 光制御デバイス・光ファイバーのコードシェアセッション

[11p-S202-12] マイクロチップレーザによる6MWピークパワー355nm光パルス発生

〇BHANDARI RAKESH¹、遠藤 治幸¹、関口 翔大¹、初鹿野 圭¹、多久島 裕一¹ (1.オプトクエスト)

キーワード：マイクロチップレーザ、UV、355 nm

6MWを超えるピークパワー、非常にコンパクト355nmUVマイクロチップレーザの設計と制作を報告する。 ファイバーコンバイナーを利用する新し励起方法を使用した。 1064nmで11.3mJ、935ps、> 12MWの出力と、波長変換後、355nmで4.1mJ、645ps、6.36MWの出力が得られた。マイクロチップレーザを使用して、355nmで達成された最高のパルスエネルギーとピークパワーである。