2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[12a-N203-1~10] 6.4 薄膜新材料

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:30 N203 (口頭)

村岡 祐治(岡山大)、室谷 裕志(東海大)

10:15 〜 10:30

[12a-N203-6] CaF2ドープIn2O3透明導電膜における表面ラフネスおよび導電率のドーパント濃度依存性

〇(M2)大榮 海斗1、森 峻1、渡辺 幸太郎1、永井 裕己1、山口 智広1、尾沼 猛儀1、本田 徹1、相川 慎也1 (1.工学院大)

キーワード:透明導電膜、アニオンドープ、In2O3系材料