[12a-N301-1~11] 6.1 強誘電体薄膜

[12a-N301-1] CSD法によるLaNiO₃薄膜の自己配向成長と成膜条件の相関

芦原 凛太郎¹、河原 正美²、岡﨑 宏之³、山本 春也³、〇川江 健¹ (1.金沢大理工、2.高純度化学研究所、3.量研・高崎研)

キーワード：LaNiO3、自己配向、化学溶液堆積法

様々な基板上で自己配向性を示すLaNiO₃（LNO）薄膜は、多様なペロブスカイト酸化物薄膜の形成に対するテンプレート層として期待される。これまでに化学溶液堆積（CSD）法で作製したLNO薄膜の自己配向と熱処理条件の関係性や目的物質に対するテンプレート機能について報告してきた。本研究では、CSD溶液や基板材料の違いによるLNO薄膜の自己配向性に関して、主にテンプレート機能を中心に検証を行った。