2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.2 評価・基礎物性

[12a-N302-1~10] 12.2 評価・基礎物性

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:45 N302 (口頭)

中山 泰生(東理大)、西野 智昭(東工大)

10:15 〜 10:30

[12a-N302-6] ケルビン法で調べた金属層積層によるTPBi薄膜の表面電位の変化

栢口 英之1、田雑 友貴1、石井 久夫1,2,3、田中 有弥1,2 (1.千葉大院融合、2.千葉大先進、3.千葉大MCRC)

キーワード:表面電位、ケルビン法、配向分極

OLEDは、電子輸送材料上に電極が積層された構造を持つ。電子輸送材料に使われる極性有機分子は暗条件下で真空蒸着すると、膜厚に依存した巨大な電位が発生するが、電極を成膜した際の内部電位分布については未解明であった。本研究では、極性有機分子であるTPBi上にAlを積層し、膜厚に対する内部電位分布を調べたところ、Alを積層するとすぐに電位は維持されることなく減少した。この現象における、熱電子と光の影響を議論する。