2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[12a-N323-1~8] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年9月12日(日) 09:45 〜 12:00 N323 (口頭)

山根 大輔(立命館大)、原 史朗(産業技術総合研究所)

11:45 〜 12:00

[12a-N323-8] ミニマルレーザ加熱装置の温度補正

佐藤 和重1,3、千葉 貴史1,3、寺田 昌男1,3、濱田 健吾1,3、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.坂口電熱)

キーワード:ミニマルファブ、レーザ加熱