2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12a-N402-1~11] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N402 (口頭)

尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)

09:00 〜 09:15

[12a-N402-1] エアロゾルデポジションによる酸化物高温超伝導体Bi2Sr2Ca2Cu3Oy薄膜の作製と評価

奥村 優一1、佐藤 祐喜1、吉門 進三1 (1.同大理工)

キーワード:エアロゾルデポジション、超伝導体