[12a-N402-1~11] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12a-N402-11] Fe基板上に作製したMgB₂薄膜へのポストアニール効果

〇(M1)山崎 輝¹、神部 大翔¹、川山 巌¹、岩中 拓夢²、楠 敏明²、一瀬 中³、土井 俊哉¹ (1.京大、2.日立、3.電中研)

キーワード：超伝導、MgB2薄膜、ポストアニール

EB蒸着法を用いてFe基板上にMgB₂薄膜を作製し、650℃で1、3、5時間の後アニールを行った。1時間の後アニールでは超伝導特性が向上したが、3、5時間の後アニールでは超伝導特性が低下した。これらのことから、Fe基板上に作製したMgB₂薄膜を650℃で後アニールするとFe基板からFe元素がMgB₂薄膜に拡散し、超伝導特性が低下したことが分かった。