[12a-N402-1~11] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12a-N402-4] フッ素フリーMOD法RE123薄膜に対する低PH₂O下での積層欠陥導入効果

〇金泉 莉大¹、元木 貴則¹、瀬川 雄大¹、大崎 瑛介¹、中村 新一²、本田 元気³、永石 竜起³、小林 慎一³、下山 淳一¹ (1.青学大理工、2.TEP、3.住友電工)

キーワード：超伝導、薄膜

これまで我々はフッ素フリーMOD法で作製したYBa₂Cu₃O_y(Y123)超伝導薄膜に対して、200°C以下での含水蒸気雰囲気中熱処理により積層欠陥を比較的低濃度に制御し、熱処理条件や追加酸素アニールの制御により欠陥濃度が制御可能であることを報告してきた。本研究では、作製したY123薄膜に対して水蒸気分圧を制御した含水蒸気雰囲気中熱処理により積層欠陥量と分布を制御し、その生成機構と超伝導特性に与える効果の本質的な理解を目指した。