2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[12a-S401-1~8] 1.3 新技術・複合新領域

2021年9月12日(日) 09:15 〜 11:30 S401 (口頭)

松谷 晃宏(東工大)

09:30 〜 09:45

[12a-S401-2] MOD法によるV1-xCrxO2 (x = 0.01~0.15) 薄膜の作製と特性評価

〇(M2)落合 佑多1、河原 正美2、佐村 剛2、立木 隆1、内田 貴司1 (1.防衛大 電気電子、2.高純度化学研)

キーワード:半導体、酸化物エレクトロニクス、薄膜