The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[12p-N104-1~7] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

Sun. Sep 12, 2021 1:30 PM - 3:15 PM N104 (Oral)

Tamihiro Gotoh(Gunma Univ.)

3:00 PM - 3:15 PM

[12p-N104-7] Understanding the mechanism of lowering resistivity in transition metal included amorphous chalcogenide

Shogo Hatayama1,2, Keisuke Kobayashi3,4, Yuta Saito1, Paul Fons1,5, Yi Shuang2, Shunsuke Mori2, Alexander V. Kolobov1,6, Yuji Sutou2 (1.AIST, 2.Tohoku Univ., 3.JASRI, 4.Kochi Univ. Tech., 5.Keio Univ., 6.Herzen State Pedagogical Univ.)

Keywords:Chalcogenide, Amorphous, Transition metal

遷移金属を含まないアモルファスカルコゲナイドの場合、カルコゲン欠陥がキャリアをトラップすることで高抵抗化すると考えられている。一方、遷移金属含有アモルファスカルコゲナイド(TM-AC)は比較的低い抵抗率を示すことが経験的に知られているものの、その詳細な機構については明らかになっていない。本研究では、TM-ACの一種であるCr2Ge2Te6 (CrGT)に関して、アモルファスが低抵抗化する機構を調査した。