2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[12p-N104-1~7] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2021年9月12日(日) 13:30 〜 15:15 N104 (口頭)

後藤 民浩(群馬大)

15:00 〜 15:15

[12p-N104-7] 遷移金属含有アモルファスカルコゲナイドの低抵抗化機構の解明

畑山 祥吾1,2、小林 啓介3,4、齊藤 雄太1、フォンス ポール1,5、シュアン イ2、森 竣祐2、コロボフ アレキサンダー1,6、須藤 祐司2 (1.産総研デバイス技術、2.東北大工、3.JASRI、4.高知工科大、5.慶應大理工、6.ゲルツェン大)

キーワード:カルコゲナイド、アモルファス、遷移金属

遷移金属を含まないアモルファスカルコゲナイドの場合、カルコゲン欠陥がキャリアをトラップすることで高抵抗化すると考えられている。一方、遷移金属含有アモルファスカルコゲナイド(TM-AC)は比較的低い抵抗率を示すことが経験的に知られているものの、その詳細な機構については明らかになっていない。本研究では、TM-ACの一種であるCr2Ge2Te6 (CrGT)に関して、アモルファスが低抵抗化する機構を調査した。