2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[12p-N206-1~19] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2021年9月12日(日) 13:00 〜 18:15 N206 (口頭)

杉山 睦(東理大)、片山 司(北大)、神野 莉衣奈(東大)

16:00 〜 16:15

[12p-N206-12] 深紫外透明導電膜への応用に向けた(InxGa1−x)2O3混晶薄膜の成長とその評価

〇(M1)小倉 有莉1、新田 悠汰1、池之上 卓己2、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京工繊大、2.京大)

キーワード:混晶