2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.2 評価・基礎物性

[12p-N302-1~17] 12.2 評価・基礎物性

2021年9月12日(日) 13:30 〜 18:15 N302 (口頭)

山田 洋一(筑波大)、櫻井 岳暁(筑波大)、早川 竜馬(物材機構)

14:00 〜 14:15

[12p-N302-3] ZnOナノワイヤによる官能基位置選択的な直鎖ケトンの自動酸化促進

〇(M1)黒瀬 峻平1、井上 暉英2、細見 拓郎1,3、長島 一樹1,3、高橋 綱己1,3、張 国柱1、金井 真樹2、柳田 剛1,2 (1.東大院工、2.九大先導研、3.JSTさきがけ)

キーワード:ナノワイヤ、ケトン、選択性

金属酸化物表面において、官能基位置異性体の分子群を識別することは困難な課題とされてきた。一方、最近我々はZnOナノワイヤ表面において炭素数7-11からなる直鎖ケトンの構造異性体が選択的に酸化されることを明らかにした。本研究では、直鎖ケトンの気相吸着条件を蒸気濃度に着目して変調させ、酸化進行度を測定することでケトンの酸化プロセスを推定し、アルドール反応を経由した新たな反応選択性メカニズムを提唱した。