The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power devices, process technology and characterization

[12p-N305-1~14] 13.7 Compound and power devices, process technology and characterization

Sun. Sep 12, 2021 1:30 PM - 5:15 PM N305 (Oral)

Kenji Shiojima(Univ. of Fukui), Kozo Makiyama(Sumitomo Electric Industries, Ltd.)

4:00 PM - 4:15 PM

[12p-N305-10] Improvement of Breakdown Voltage of NiO/β-Ga2O3 Diode by Heat Treatment in Oxygen

Shinji Nakagomi1, Masaya Sato1, Ryoto Chiba1, Koji Yano2 (1.Ishinomaki Senshu Univ., 2.Yamanashi Univ.)

Keywords:Ga2O3, NiO, diode

我々はp形伝導性を示す数少ない酸化物半導体NiOに着目し、NiO/β-Ga2O3ヘテロ接合ダイオードを開発している。今回, 基板を酸素中で熱処理することで高耐圧化を図ったので報告する。逆方向1000Vで1nA以下であり、フロリナート滴下状態で1400Vを確認した。