2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12p-N402-1~10] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2021年9月12日(日) 13:30 〜 16:15 N402 (口頭)

舩木 修平(島根大)、飯田 和昌(名大)

13:45 〜 14:00

[12p-N402-2] BHOを添加したREBCO被覆導体の最適化と酸素ポストアニーリング効果

栗林 晃宏1、梶村 広之1、松本 要1、堀出 朋哉1、一瀬 中2 (1.九工大、2.電中研)

キーワード:超伝導体、REBCO、ナノロッド

PLD法を用いてGdBCO薄膜にBHOを添加し、BHO濃度に対する低温・高磁場でのピン止め特性を評価した。また、酸素ポストアニーリングによってBHOの過剰添加によるc軸長の増加を回復することによりJcの改善を目指した。