2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[12p-N406-1~12] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2021年9月12日(日) 13:00 〜 16:15 N406 (口頭)

佐々木 拓生(量研機構)、朝日 重雄(神戸大)

15:15 〜 15:30

[12p-N406-9] InAs1-xBix/GaAs量子ドットの実現に向けたMBE成長条件の検討

吉岡 顕大1、横手 竜希2、岡村 祐輝1、藤野 翔太朗2、富永 依里子1,2、行宗 詳規3、石川 史太郎3、林 将平4、赤羽 浩一5 (1.広大先進理工系科学研究科、2.広大先端物質科学研究科、3.愛媛大理工学研究科、4.東レリサーチセンター、5.情報通信研究機構)

キーワード:量子ドット、ビスマス、InAsBi