2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[12p-S202-1~21] 2.5 放射線誘起蛍光体

2021年9月12日(日) 13:00 〜 18:30 S202 (口頭)

越水 正典(東北大)、岡田 豪(金沢工大)、河野 直樹(秋田大)

18:15 〜 18:30

[12p-S202-21] キセノンイメージ炉を用いたCe:Lu2O3-Al2O3-SiO2系ガラスの作製とそのシンチレーション特性の組成依存性

〇(DC)白鳥 大毅1、中内 大介1、加藤 匠1、河口 範明1、柳田 健之1 (1.奈良先端大)

キーワード：シンチレータ、ガラス、イメージ炉