2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[12p-S203-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月12日(日) 13:00 〜 16:30 S203 (口頭)

木下 健太郎(東理大)

13:45 〜 14:00

[12p-S203-4] Pt/TaOx/Ta2O5/Pt抵抗変化素子におけるフォーミング特性の酸素組成x依存性

〇(DC)宮谷 俊輝1、木本 恒暢1、西 佑介1,2 (1.京大院工、2.舞鶴高専)

キーワード:抵抗変化メモリ、酸化物

Pt/TaOx/Ta2O5/Pt素子においては、過電流を抑制することで数kΩ程度の抵抗状態への特殊なForming現象が発現する。さらに、その後の印加電圧を適切に設定することで、アナログ抵抗変化特性が得られる。
本研究では、アナログ抵抗制御につながるこのForming現象のメカニズム解明を目的として、TaOxの酸素組成がForming特性に与える影響を調べた。