2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13a-S203-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月13日(月) 09:00 〜 11:30 S203 (口頭)

若林 勇希(NTT)、上田 浩平(阪大)

10:00 〜 10:15

[13a-S203-5] NaClO溶液の酸化作用を利用した菱面体晶LaCuO3薄膜の作製

浅沼 周太郎1 (1.産総研)

キーワード:LaCuO3、PLD、NaClO

LaCuO3は高温超伝導銅酸化物と似た構造を持ちながら、200気圧以上の高圧O2雰囲気でしか焼成出来なかったため十分な研究が行われて来なかった。一方、近年、NaClO溶液を用いて酸化物の酸素欠陥を埋める手法が考案され、高圧プロセスを用いずに化学量論的組成のSrCoO3等のコバルト酸化物が作製されている。この手法を応用して高圧プロセスを用いずに化学量論的組成に近いLaCuO3を作製することに成功したのでその結果について報告する。