2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[13p-N101-1~18] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年9月13日(月) 13:00 〜 18:00 N101 (口頭)

井村 将隆(物材機構)、谷川 智之(阪大)、市川 修平(阪大)

14:45 〜 15:00

[13p-N101-7] 極性面フリーな三次元GaN構造の成長発展メカニズム

松田 祥伸1、船戸 充1、川上 養一1 (1.京大院工)

キーワード:窒化物半導体、三次元構造、選択成長法

蛍光体フリーな多色発光素子として,我々は,半極性面GaN基板上に極性面フリーな3D InGaN QWを作製し,輻射再結合寿命の短い多色発光構造を提案している.3D QWの特徴として,下地3D GaN構造の形状制御による発光スペクトル制御が挙げられ,極性面フリーな構造においてもその制御性を確認している.しかし,その3D GaN構造の成長発展メカニズムは未解明であった.本研究では,極性面フリーな3D GaN構造の成長発展過程を考察したので報告する.