The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[13p-N101-1~18] 15.4 III-V-group nitride crystals

Mon. Sep 13, 2021 1:00 PM - 6:00 PM N101 (Oral)

Masataka Imura(NIMS), Tomoyuki Tanikawa(Osaka Univ.), Shuhei Ichikawa(Osaka Univ.)

2:45 PM - 3:00 PM

[13p-N101-7] Growth evolution of polar-plane-free faceted 3D GaN structures

Yoshinobu Matsuda1, Mitsuru Funato1, Yoichi Kawakami1 (1.Kyoto Univ.)

Keywords:Nitride semiconductor, Three dimensional structure, Selective area growth

蛍光体フリーな多色発光素子として,我々は,半極性面GaN基板上に極性面フリーな3D InGaN QWを作製し,輻射再結合寿命の短い多色発光構造を提案している.3D QWの特徴として,下地3D GaN構造の形状制御による発光スペクトル制御が挙げられ,極性面フリーな構造においてもその制御性を確認している.しかし,その3D GaN構造の成長発展メカニズムは未解明であった.本研究では,極性面フリーな3D GaN構造の成長発展過程を考察したので報告する.