[13p-N203-1~10] 6.4 薄膜新材料

△ [13p-N203-2] 異原子価ドープ層状La-Ni-O系エピタキシャル薄膜のPLD合成および特性評価

〇(M2)久富 翔平¹、後藤 祐己¹、大賀 友瑛¹、金子 智^2,1、吉本 護¹、松田 晃史¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)

キーワード：エピタキシャル薄膜、ニッケル酸ランタン、ルドルスデンポッパー

層状ニッケル酸ランタンLa_n+1Ni_nO_3n+1(n=1,2,3,…,∞)は混合イオン電子伝導性特性により、固体酸化物燃料電池など様々な応用が期待されている。そのなかでも多層型結晶(n≧3)においてはエピタキシャル薄膜やドーピングに関する報告例は少なく、薄膜合成や導電特性に関する知見が求められている。本研究では、異原子価ドープされた層状ニッケル酸ランタンのエピタキシャル薄膜合成と、4価イオンによるLa³⁺置換、およびNi価数制御が薄膜の構造および導電性におよぼす影響について検討した。