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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[13p-N203-1~10] 6.4 薄膜新材料

2021年9月13日(月) 13:30 〜 16:00 N203 (口頭)

土屋哲男(産総研)、西川博昭(近畿大)

14:45 〜 15:00

△ [13p-N203-6] 複合成膜手法による低屈折率TiO₂光学薄膜の作製

〇速水舞¹、室谷裕志²、松本繁治³ (1.東海大院総合理工、2.東海大工、3.㈱シンクロン)

キーワード：光学薄膜