2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-S203-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:00 S203 (口頭)

藤田 貴啓(東大)、相馬 拓人(東工大)

13:00 〜 13:15

[13p-S203-1] NdNiO3レジスターでのチャネル形状に依存したプロトン拡散挙動と抵抗変調特性

難波 央1、服部 梓1、田中 秀和1 (1.阪大産研)

キーワード:強相関金属酸化物、プロトンドープ