[13p-S203-1~15] 6.3 Oxide electronics

[13p-S203-11] Quenching high-pressure phase CaSiO₃ perovskite by epitaxial stabilization

〇(DC)Yuki Sasahara¹, Ryota Shimizu¹, Norimasa Nishiyama^2,3, Masaki Azuma³, Taro Hitosugi¹ (1.Tokyo Tech, 2.SEI, 3.MSL)

Keywords:epitaxial stabilization, high pressure, metastable phase

超高圧下でのみ存在可能な物質を大気圧下に取り出すべく、エピタキシャル安定化に着目し、薄膜試料に対する超高圧処理技術の開発を進めてきた。本研究では、大気圧下に回収できない高圧相物質であるペロブスカイト型CaSiO3に着目し、ペロブスカイト型YAlO₃基板上の非晶質CaSiO3薄膜を高圧下で固相エピタキシャル成長させることで、エピタキシャル安定化によって、その人工的な大気圧下回収に初めて成功した。