2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-S203-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:00 S203 (口頭)

藤田 貴啓(東大)、相馬 拓人(東工大)

16:15 〜 16:30

[13p-S203-13] NiCo2O4電極を用いた磁気トンネル接合における負のトンネル磁気抵抗効果

原 吉典1、辻榮 朝香1、島田 敏宏2、長浜 太郎2 (1.北大院総化、2.北大院工)

キーワード:磁気トンネル接合、トンネル磁気抵抗効果、磁性酸化物

NiCo2O4は、金属的な電気伝導性、フェリ磁性、基板との組み合わせにより垂直磁気異方性を示すことが知られており、スピントロニクス材料への応用が期待されている。また理論的には、スピン分極率が-100 %であることが示されおり、磁気トンネル接合の電極に用いることで、大きなTMR比が得られることが予測される。本研究では、NiCo2O4を用いた磁気トンネル接合のTMR効果を調べ、NiCo2O4のスピン分極率を評価した。