2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-S203-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:00 S203 (口頭)

藤田 貴啓(東大)、相馬 拓人(東工大)

15:15 〜 15:30

[13p-S203-9] SnO薄膜トランジスタのデバイス特性を支配するギャップ内準位の解明

簑原 誠人1、浅沼 周太郎1、浅井 栄大1、土橋 優香2、三溝 朱音2、手塚 泰久3、小澤 健一4,5、間瀬 一彦5,6、菊地 直人1、相浦 義弘1 (1.産総研、2.東京理科大、3.弘前大、4.東工大、5.高エネ研、6.総研大)

キーワード:p型酸化物半導体、薄膜トランジスタ、光電子分光