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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[13p-S301-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:15 S301 (口頭)

神田一浩(兵庫県立大)、針谷達(豊橋技科大)

16:00 〜 16:15

[13p-S301-11] アセチレン-N₂混合気体のマイクロ波プラズマCVDによる
高窒素含有a-CNx:H薄膜の作製と構造解析

〇(M2)佐藤悠雅¹、伊藤治彦¹ (1.長岡技大工)

キーワード：プラズマCVD、水素化アモルファス窒化炭素