2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.8 光物性・発光デバイス

[23a-P11-1~18] 13.8 光物性・発光デバイス

2021年9月23日(木) 11:00 〜 12:40 P11 (ポスター)

11:00 〜 12:40

[23a-P11-3] 深紫外発光ZnAl2O4薄膜形成条件の最適化

園田 直樹1、井上 晃佑1、小南 裕子1、原 和彦1 (1.静岡大工)

キーワード:薄膜、紫外発光

現在、紫外殺菌について需要が高まっている。我々は、ZnAl2O4が殺菌用紫外発光蛍光体として適切であると考え、作製条件の最適化及びデバイスへの応用を睨んだ薄膜作製について検討を行っている。ZnAl2O4薄膜の作製方法として、ZnOとサファイアの熱拡散により形成している。今回、ZnAl2O4膜質の最適化について検討を行った。