[23a-P12-1~5] 13.9 Compound solar cells

[23a-P12-4] Fabrication of Cu₂SnS₃ thin films by dual source fine channel mist CVD method

〇Kazuya Okamura¹, Takuya Tomono¹, Ren Saito¹, Kunihiko Tanaka¹ (1.Nagaoka Univ.tec)

Keywords:solar cell, non-vacuum process

これまで、我々はミストCVD法を用いてCu₂SnS₃(CTS)薄膜を作製してきた。一方Cu，Sn，Sを同時に含む溶液を作製し成膜を試みたところ，溶液の粘性が高く，ミストにできなかった。そこで，Cu, Snを含む溶液とSを含む溶液を個別に作り，これらからミストを別々に発生させミストの状態で混合して製膜することにより，硫化プロセスを経ずにミストCVD法により基板上へのCTSの堆積を試みた。