2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[23p-P07-1~16] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年9月23日(木) 13:00 〜 14:40 P07 (ポスター)

13:00 〜 14:40

[23p-P07-8] 緩和制御層上GaInN周期構造のRF-MBE成長と評価

松田 真樹1、吉田 涼介1、田原 開悟1、山口 智広1、尾沼 猛儀1、本田 徹1 (1.工学院大)

キーワード:GaInN

高In組成GaInNは歪量子井戸におけるピエゾ電界に起因したQCSEによる発光効率の低下が課題に挙げられる.従って,格子定数がGaInN周期構造と近い緩衝層を下地層(UL)として用い,障壁層もULに格子定数を揃えることで,QCSEの低減が可能となる.本研究では,QCSEの低減を目的とした緩和制御層GaInN ULを挿入した後,周期構造をMBE成長し,GaN ULを用いた試料との比較検討を行った.測定方法にはXRD θ-2θ,XRD RSM測定、PL測定を行った.