3:00 PM - 4:40 PM
[23p-P12-9] Sputter deposition of high-mobility amorphous In2O3:Sn films above 350°C using nitrogen
Keywords:sputtering, amorphous, ITO
In2O3:Sn (ITO) 薄膜は可視光領域における高い透過率と低い電気抵抗率を併せ持つことから,タッチパネル等の透明電極として用いられており,なかでも近年,優れた表面平坦性や高いエッチング速度といった優位性から,アモルファスITO (a-ITO) 膜が注目されている.本研究では,不純物であるN原子フラックスを制御することで,結晶化温度よりもはるかに高い350°Cでのa-ITO膜の作製に成功したので報告する.