PDF ダウンロード スケジュール 4 いいね! 0 コメント (0) 17:00 〜 18:40 [23p-P13-20] 層状ヒ化シリコン膜の作製と評価 〇加々美 朱羽1、鈴木 裕一郎1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.信州大 先鋭材料研) キーワード:層状半導体、結晶成長、材料評価