17:30 〜 17:45 [18p-Z05-15] ドライおよびウェット酸化種が共存する4H-SiC/SiO2界面での反応機構の理論検討 〇清水 紀志1、秋山 亨1、伊藤 智徳1、影島 博之2、植松 真司3、白石 賢二4 (1.三重大院工、2.島根大自然科学、3.慶応大理工、4.名大未来研)