10:00 〜 10:15 [16a-Z33-4] 真空紫外光(172 nm)照射によるPLD合成NiO薄膜の導電性への影響 〇(M1)金子 健太1、篠崎 佳晴1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)