17:30 〜 17:45 [18p-Z33-16] GaCl3気体原料を用いたβ-Ga2O3ホモエピタキシャル成長 〇(B)長野 理紗1、江間 研太郎1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、村上 尚1 (1.東京農工大学院工、2.(株)ノベルクリスタルテクノロジー)