一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
13:30 〜 13:45
〇玄地 真悟1、大坂 藍1、服部 梓1、渡邊 賢司2、谷口 尚2、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.物材機構)
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13:45 〜 14:00
〇福地 厚1、椿 啓司1、石田 典輝1、片瀬 貴義2、神谷 利夫2、有田 正志1、高橋 庸夫1 (1.北大院情報、2.東工大フロ研)
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14:00 〜 14:15
〇(M1)松村 美貴也1、田中 貴久1、内田 建1 (1.東大院工)
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14:15 〜 14:30
〇吉松 公平1,2、長谷川 直人1、南部 雄亮3、石井 祐太4、若林 裕助4、組頭 広志1,2,5 (1.東北大多元研、2.東工大元素戦略、3.東北大金研、4.東北大院理物、5.KEK物構研)
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14:30 〜 14:45
〇塩谷 広樹1,2、井上 尚子2、吉田 将郎2、清木 規矢3、庄子 良晃3、福島 孝典3、岩佐 義宏2,4 (1.阪大ナノ、2.東大物工、3.東工大化生研、4.理研)
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14:45 〜 15:00
〇菅 大介1、畑野 敬史2、阿部 晃大2、生田 博志2、島川 祐一1 (1.京大化研、2.名大院工)
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15:00 〜 15:15
〇芦原 凜太郎1、河原 正美2、川江 健1 (1.金沢大理工、2.（株）高純度化学研究所)
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15:30 〜 15:45
〇作田 政大1、山原 弘靖1、関 宗俊1、田畑 仁1 (1.東大院工)
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15:45 〜 16:00
〇(M1)磯田 洋介1、菅 大介1、島川 祐一1 (1.京大化研)
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16:00 〜 16:15
〇浜田 康平1、西山 歩夢1、片岡 晴信1、小堀 裕巳1、山崎 篤志1 (1.甲南大学理工)
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16:15 〜 16:30
〇横山 智康1,2、大内 暁1、市川 和秀1、四橋 聡史1、金子 幸広1、笹川 崇男2 (1.パナソニック、2.東工大)
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16:30 〜 16:45
〇関根 洋平1、中村 和人1 (1.（株）東ソー分析センター)
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16:45 〜 17:00
〇西尾 和記1、一ノ倉 聖2、小林 安貴1、中村 直人1、枝村 紅衣1、中山 亮1、清水 亮太1,3、平原 徹2、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.東工大理学院、3.JSTさきがけ)
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17:00 〜 17:15
〇西尾 和記1、小林 成1、今関 大輔1、中山 亮1、清水 亮太1,2、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ)
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