一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー
09:00 〜 09:15
〇(M2)松内 秀直1、Stemo Garrek1、香月 浩之1、柳 久雄1 (1.奈良先端科技大・物質)
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09:15 〜 09:30
〇(D)鈴木 杏奈1、Christian Kränkel2、戸倉川 正樹1 (1.電通大レーザー研、2.IKZ)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇Tobias Kugel1,2、Daiki Okazaki1、Ko Arai1、Satoshi Ashihara1 (1.University of Tokyo、2.TU Graz)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇新井 滉1、岡崎 大樹1、森近 一貴1、芦原 聡1 (1.東大生研)
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10:00 〜 10:15
〇高橋 知宏1、森近 一貴1、芦原 聡1 (1.東大生研)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇(P)Bing Xue1、Hiroki Mashiko2、Katsuya Oguri2、Katsumi Midorikawa1、Eiji J. Takahashi1 (1.RAP, RIKEN、2.NTT Basic Research Lab.)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇西宮 海人1、野田 拓真1、久保村 兼人1、須田 亮1 (1.東京理科大学)
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10:45 〜 11:00
〇(M2)市川 卓人1、齊藤 雄太2、長谷 宗明1 (1.筑波大数理物質、2.産総研デバイス技術)
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11:00 〜 11:15
〇古庄 裕也1、八木 涼子1、丸橋 司1、須田 匡紀1、南 不二雄1、中村 一隆1 (1.東工大フロンティア研)
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