一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2021年3月19日(金) 09:00 〜 11:45 Z09 (Z09)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(M1)戈 剣飛1、茨田 大輔1 (1.Utsunomiya University)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇(M2)上野山 光輝1、茨田 大輔1,2 (1.宇大工、2.宇大 CORE)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇河村 希典1、市村 優貴1、山平 大喜1 (1.秋田大学理工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
劉 志強1、陳 曉西1、〇葉 茂1 (1.電科大)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇坪井 雄都1、李 蕣里1、久保 等1、澁谷 義一1、尾﨑 雅則1 (1.阪大院工)
スケジュール
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10:30 〜 11:00
〇渋谷 眞人1 (1.東京工芸大学)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇佐々木 詩月1、鵜殿 真理子1、小池 康博1,2 (1.慶大院理工、2.KPRI)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇保賀 健太1、福本 禄寿1、堤 康宏1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇松田 汐利1、堤 康宏1、藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
スケジュール
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