一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2021年3月19日(金) 09:00 〜 11:30 Z15 (Z15)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(DC)Xin DAI1、Ryota Shimizu1,2、Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech.、2.JST-PRESTO)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇大榮 海斗1、相川 慎也1 (1.工学院大)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇新野 萌1、久保田 祐紳1、山下 佑海1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇長尾 優輝1、澤村 南斗1、眞弓 慎司1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇小西 直磨1、内藤 貫太1、鈴木 康介1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇水越 光司1,2、山村 剛史3、冨岡 泰宏3、川村 みどり1 (1.北見工大、2.YKK AP、3.YKK)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇平岡 壮大1、加藤 暢宏2、藤原 宏平3、西川 博昭2 (1.近大院生物理工、2.近大生物理工、3.東北大金研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇水山 智文1、廣﨑 紀光2、西垣 勉3、西川 博昭3 (1.近畿大院生物理工、2.太洋工業 研究開発部、3.近畿大生物理工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇中島 智彦1、土屋 哲男1 (1.産総研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇徳久 英雄1 (1.産総研電子光)
スケジュール
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