一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー
13:30 〜 13:45
〇藤井 瞬1,2、葉山 優花2、熊崎 基2、和田 幸四郎2、柿沼 康弘2、田邉 孝純2 (1.理研、2.慶大理工)
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13:45 〜 14:00
〇(DC)戸村 暁廣1、大饗 千彰2、美濃島 薫1,2、桂川 眞幸1,2 (1.電通大情理、2.電通大量研)
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14:00 〜 14:15
〇Tomohiro Tetsumoto1、Tadao Nagatsuma2、Martin Fermann1、Gabriele Navickaite3、Michael Geiselmann3、Antoine Rolland1 (1.IMRA America Inc.、2.Osaka Univ.、3.Ligentec SA)
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14:15 〜 14:30
〇(B)川島 滉太1,2、石澤 淳1、高 磊3、徐 学俊1、土澤 泰4、相原 卓磨4、西川 正2、コン グァンウェイ3、山本 宗継3、山田 浩治3、小栗 克弥1 (1.NTT物性研、2.東京電機大、3.産総研、4.NTT先デ研)
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14:30 〜 14:45
〇加藤 耕平1、菅 颯人1、山中 真仁1、西澤 典彦1 (1.名大工)
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14:45 〜 15:00
〇中島 綾太1、藤井 瞬1,2、今村 陸1、長島 圭吾1、田邉 孝純1 (1.慶大理工、2.理研)
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15:00 〜 15:15
〇今村 陸1、長島 圭吾1、藤井 瞬2、熊﨑 基1、田邉 孝純1 (1.慶大理工、2.理研)
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15:15 〜 15:30
〇(D)岡崎 大樹1、He Yang2、Zeng Xianglong2、芦原 聡1 (1.東大生研、2.上海大学)
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15:30 〜 15:45
〇(D)WENQING SONG1、DAIKI OKAZAKI1、IKKI MORICHIKA1、SATOSHI ASHIHARA1 (1.IIS, The Univ. of Tokyo)
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15:45 〜 16:00
〇浅原 彰文1、足立 拓斗1、秋山 誠志郎1、美濃島 薫1 (1.電通大)
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16:00 〜 16:15
〇西澤 典彦1、山中 真仁1 (1.名大院工)
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16:15 〜 16:30
〇(D)西浦 匡則1,2、塩田 達俊1 (1.埼玉大学、2.セブンシックス)
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