一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.13 半導体光デバイス [19a-Z22-1~11] 3.13 半導体光デバイス 2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:00 Z22 (Z22) 荒井 昌和(宮崎大)、内田 史朗(千葉工大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.13 半導体光デバイス [19p-Z22-1~16] 3.13 半導体光デバイス 2021年3月19日(金) 13:30 〜 18:00 Z22 (Z22) 荒川 太郎(横国大)、宮本 智之(東工大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.14 光制御デバイス・光ファイバー [19a-Z05-1~10] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー 2021年3月19日(金) 09:00 〜 11:45 Z05 (Z05) 橋本 俊和(NTT)、高 磊(産総研)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.14 光制御デバイス・光ファイバー [19p-Z05-1~13] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー 2021年3月19日(金) 13:30 〜 17:15 Z05 (Z05) 水野 洋輔(横国大)、西山 道子(創価大)、黒田 圭司(北里大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.1 強誘電体薄膜 [19a-Z13-1~8] 6.1 強誘電体薄膜 2021年3月19日(金) 10:00 〜 12:00 Z13 (Z13) 吉田 慎哉(東北大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.1 強誘電体薄膜 [19p-Z13-1~14] 6.1 強誘電体薄膜 2021年3月19日(金) 13:30 〜 17:15 Z13 (Z13) 小林 健(産総研)、中嶋 誠二(兵庫県立大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [19a-Z14-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:00 Z14 (Z14) 高橋 竜太(日大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [19p-Z14-1~18] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2021年3月19日(金) 13:30 〜 18:15 Z14 (Z14) 神吉 輝夫(阪大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.4 薄膜新材料 [19a-Z15-1~10] 6.4 薄膜新材料 2021年3月19日(金) 09:00 〜 11:30 Z15 (Z15) 中村 吉伸(東大)、室谷 裕志(東海大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.4 薄膜新材料 [19p-Z15-1~11] 6.4 薄膜新材料 2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:15 Z15 (Z15) 村岡 祐治(岡山大)、長谷川 哲也(東大)