[16a-Z10-1~10] 3.15 Silicon photonics and integrated photonics

[16a-Z10-5] Evaluated propagation loss of SiN waveguide for visible light

〇Yuriko Maegami¹, Toshihiro Narushima¹, Nobuyuki Yokoyama¹, Shigeru Saitou¹, Minoru Ohtsuka¹, Hitoshi Kawashima¹, Koji Yamada¹ (1.AIST)

Keywords:SiN waveguide, propagation loss, material loss

量産性に優れるCMOS互換プロセスを用いて作製できる可視光用導波路材料として窒化シリコン (SiN) が挙げられる。今回、LP-CVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) により成膜した正規組成比のSiN薄膜をコアとした光導波路を作製し、波長452 nmと524 nmにおいて、伝搬損失を評価したので報告する。